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            联系人: 陈光珠
            电  话: 021-69918486,69918652
            手  机: 13788950882
            传  真: 021-69918550
            邮  箱: gzhchen@siom.ac.cn;
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            薄膜衬底 >> GaN 薄膜基片 >> 氧化镁(MgO)
            氧化镁(MgO)
             

            03
             
            简要介绍
                   氧化镁(MgO)单晶基片广泛应用在多个薄膜技术领域中。如用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜和高温超导薄膜等。由于MgO单晶在微波波段的介电常数和损耗都很小,且能得到大面积的基片(直径2英吋及更大),所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。 可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。具有很大的现实及潜在应用市场。
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            详细参数

             

            主要性能参数

            生长方法

            弧熔法

            晶体结构

            立方

            晶格常数

            a=4.130 Å 

            熔点(

            2800

            纯度

            99.95%

            密度(g/cm3

            3.58

            硬度

            5.5mohs

            热膨胀系数(/

            11.2x10-6

            晶体解理面

            <100>

            光学透过

            >90%200~400nm),>98%500~1000nm

            介电常数

            ε= 9.65

            热导率(卡/度 厘米 秒)

            0.14  300°K

            尺寸

            10x3,10x5,10x10,15x15,,20x15,20x20,

            dia2” x 0.33mm dia2” x 0.43mm 15 x 15 mm

            厚度

            0.5mm,1.0mm

            抛光

            单面或双面

            晶向

            <001>±0.5º

            晶面定向精度:

            ±0.5°

            边缘定向精度:

            (特殊要求可达以内)

            斜切晶片

            可按特定需求,加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜(倾斜角45°)的晶片

            Ra:

            ≤5Å5µm×5µm

            主要特点

             由于MgO单晶在微波波段的介电常数和损耗都很小,且能得到大面积的基片(直径2英吋及更大),所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。

            主要用途

            用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜和高温超导薄膜等,也可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。

            包装

            100级洁净袋,1000级超净室

             
            版权所有 上海大恒光学精密机械有限公司光电材料事业部
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