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            联系人: 陈光珠
            电  话: 021-69918486,69918652
            手  机: 13788950882
            传  真: 021-69918550
            邮  箱: gzhchen@siom.ac.cn;
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            薄膜衬底 >> 高温超导薄膜基片 >> 氧化镁(MgO)
            氧化镁(MgO)
             

            01
             
            简要介绍
                   氧化镁(MgO)单晶基片广泛应用在多个薄膜技术领域中。如用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜和高温超导薄膜等。由于MgO单晶在微波波段的介电常数和损耗都很小,且能得到大面积的基片(直径2"及更大),所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。 可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。具有很大的现实及潜在应用市场。
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            详细参数

            主要性能参数
            生长方法
            弧熔法
            晶体结构
            立方
            晶格常数
            a=4.130 Å 
            熔点(℃)
            2800
            纯度
            99.95%
            密度(g/cm3
            3.58
            硬度
            5.5(mohs)
            热膨胀系数(/℃)
            11.2x10-6
            晶体解理面
            <100>
            光学透过
            >90%(200~400nm),>98%(500~1000nm)
            介电常数
            ε= 9.65
            热导率(卡/度 厘米 秒)
            0.14  300°K
            尺寸
            10x3,10x5,10x10,15x15,,20x15,20x20,
            dia2” x 0.33mm dia2” x 0.43mm 15 x 15 mm
            厚度
            0.5mm,1.0mm
            抛光
            单面或双面
            晶向
            <001>±0.5º
            晶面定向精度:
            ±0.5°
            边缘定向精度:
            2°(特殊要求可达1°以内)
            斜切晶片
            可按特定需求,加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜(倾斜角1°-45°)的晶片
            Ra:
            ≤5Å(5µm×5µm)
            主要特点
             由于MgO单晶在微波波段的介电常数和损耗都很小,且能得到大面积的基片(直径2英吋及更大),所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。
            主要用途
            用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜和高温超导薄膜等,也可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。
            包装
            100级洁净袋,1000级超净室

             
            版权所有 上海大恒光学精密机械有限公司光电材料事业部
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