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            联系人: 陈光珠
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            手  机: 13788950882
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            薄膜衬底 >> 高温超导薄膜基片 >> 镓酸钕(NdGaO3)晶体
            镓酸钕(NdGaO3)晶体
             

            04
             
            简要介绍
            NdGaO3是近十年中发展起来的新型基片,主要用作高温超导体(如YBCO)及磁性材料的外延薄膜生长用基片。由于NdGaO3与YBCO的晶格失配很。▇0.27%),且无结构相变,在NdGaO3基片上可外延生长质量良好的薄膜。
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            详细参数

            主要性能参数
            晶体结构
            正交
            晶胞参数Å
            a=5.43、b=5.50、c=7.71
            熔点
            1600℃
            密度
            7.57g/cm3
            介电常数
            25
            生长方法
            提拉法
            尺寸
            10x3,10x5,10x10,15x15,,20x15,20x20,
            Ф15,Ф20,Ф1″,Ф2″,Ф2.6″
            厚度
            0.5mm,1.0mm
            抛光
            单面或双面
            晶向
            <100>  <110>  <111>
            晶面定向精度:
            ±0.5°
            边缘定向精度:
            2°(特殊要求可达1°以内)
            斜切晶片
            可按特定需求,加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜(倾斜角1°-45°)的晶片
            Ra:
            ≤5Å(5µm×5µm)
            包装
            100级洁净袋,1000级超净室

             
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