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            联系人: 陈光珠
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            薄膜衬底 >> 高温超导薄膜基片 >> 掺钇氧化锆(YSZ)
            掺钇氧化锆(YSZ)
             

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            简要介绍
            掺钇氧化锆(YSZ)单晶基片是最早应用于高温超导薄膜的材料之一。一般使用的氧化锆需要掺入钇作为稳定剂,常见浓度有13 mol%,YSZ具有机械和化学稳定性好、成本低的特点。由于氧化锆材料具有高硬度,高强度,高韧性,极高的耐磨性及耐化学腐蚀性等等优良的物化性能,氧化锆已经在陶瓷、耐火材料、机械、电子、光学、航空航天、生物、化学等等各种领域获得广泛的应用。
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            详细参数

            主要性能参数
            晶体结构
            立方
            晶格常数
            a=5.147 Å 
            熔点(℃)
            2700
            密度(g/cm3
            6.0
            硬度
            8-8.5(mohs)
            纯度
            99.99%
            热膨胀系数(/℃)
            10.3×10-6
            介电常数
            ε=27
            生长方法
            弧熔法
            尺寸
            10x3,10x5,10x10,15x15,,20x15,20x20,
            dia2” x 0.33mm dia2” x 0.43mm 15 x 15 mm
            厚度
            0.5mm,1.0mm
            抛光
            单面或双面
            晶向
            <001>±0.5º
            晶面定向精度:
            ±0.5°
            边缘定向精度:
            2°(特殊要求可达1°以内)
            斜切晶片
            可按特定需求,加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜(倾斜角1°-45°)的晶片
            Ra:
            ≤5Å(5µm×5µm)
            包装
            100级洁净袋,1000级超净室

             
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